据2月2日消息，ASML首席财务官Roger Dassen近日接受了荷兰当地媒体BitsChips的采访。采访中，达森回应了分析机构SemiAnalysis的质疑，称High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍然是未来最经济的选择。
SemiAnalysis此前曾发表文章，认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而显着降低单位时间的晶圆吞吐量。这意味着，与使用现有的多次曝光的0.33NA EUV光刻机相比，High-NA的引入在不久的将来不会带来成本优势。
Dassen认为SemiAnaanalysis的观点低估了多重曝光路线的复杂性。 Intel 10nm工艺难的关键原因之一是其DUV+SAQP（注：Self-Aligned Quadruple Patterning，自对准四重曝光）技术路线过于复杂。因此Intel积极部署High-NA EUV技术，并购买了第一台High-NA光刻机。
Dassen表示，不同的客户对引入High-NA的时机有不同的评估是很自然的，但AMSL每个季度都会收到几笔High-NA EUV光刻机的新订单。
